粗抛的目的是去除工件表面较大的披锋、毛刺和刮伤等,这一阶段应具有大的抛光速率,粗抛形成的表层损伤是次要的考虑,不过也应当尽可能小。抛光机抛光时,试样磨面与抛光盘应相对对平行并均匀地轻压在抛光盘上,注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。抛光技术是金属表面处理的关键技术之一,抛光无论是在传统产业还是在电子数码产业中是不可或缺的生产步骤。
随着半导体工艺的不断发展,对半导体表面平整度和光泽度的要求越来越高,传统的机械抛光技术已经不能满足需求。抛光设备作为一种新兴的表面处理技术,具有、、无污染等优点,在半导体行业中的应用前景广阔。抛光设备不仅可以用于晶圆的表面抛光和去除氧化物,还可以用于半导体器件的表面平整化和去除残留物等方面,具有重要的应用价值。
等离子是物质的第四态,它的存在需要具备一定的条件、需要有电场、需要有被离化的物质,在物理学来说就是分子周围的电子是齐的、化学键牢固反应到外面是稳定不带电的,但外有电场的存在、会让分子周围的电子在电场的作用下、跑出来带上电荷形成不稳定的离子、离子还会在电场作用下,随着电场的方向做定向移动、数量多了就形成离子流。八溢自动化生产的等离子抛光设备就是利用离子原理来工作的,可以去毛刺、抛光、十分、无死角。
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