东莞市八溢自动化设备有限公司

不锈钢自动等离子抛光设备-八溢：

等离子抛光机是一种利用等离子体技术实现材料表面精加工的设备，其结构和工作原理如下：
一、设备结构
1.电源系统：由高频高压电源（10-50kHz）和匹配器组成，提供等离子体激发所需能量；
2.反应腔体：真空密封舱室（压力0.1-10Pa），内设工件固定装置，材质多采用不锈钢或石英；
3.电极系统：包括阳极（接工件）和阴极（网状或板状），间距5-50mm可调；
4.气体系统：配备气/氧气混合气路（比例4:1至20:1）及流量控制器；
5.控制系统：含PLC、触摸屏及真空计，实现参数数字化调节；
6.冷却装置：循环水冷系统维持腔体温度＜60℃。
二、工作原理
1.真空环境建立后通入工作气体，高频电场使气体电离产生辉光放电，形成包含电子、离子和活性粒子的等离子体；
2.高能粒子（200-1000eV）轰击工件表面，通过物理溅射（占60-70%）和化学刻蚀（30-40%）双重作用去除微观凸起；
3.离子流密度可达10^15-10^17/cm²·s，表面处理速率0.1-5μm/min；
4.通过调节电压（200-1000V）、气压、气体配比等参数，可控制表面粗糙度Ra达0.01-0.1μm。
该技术适用于金属、陶瓷等材料的超精密抛光，处理后表面氧化层厚度＜5nm，显著提升耐腐蚀性和光学性能，广泛应用于精密模具、半导体晶圆和制造领域。

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视频作者：东莞市八溢自动化设备有限公司

不锈钢等离子抛光机操作与维护指南
一、操作流程
1.准备工作
检查设备电源、气源连接正常，电解液（或溶液）浓度控制在5-15%，液位达标准线。佩戴防护眼镜、耐酸碱手套。
2.参数设置
根据工件材质厚度调节电压（通常15-30V）、电流（0.5-3A/dm²）和抛光时间（30-120秒）。初次使用建议从低参数逐步调试。
3.操作步骤
（1）固定工件于夹具，确保完全浸入电解液
（2）启动循环泵，观察液流均匀性
（3）开启等离子电源，按预设程序执行抛光
（4）完成后切断电源，取出工件用清水冲洗
二、日常维护
1.每日保养
•停机后立即排空电解液并用纯水冲洗槽体
•检查电极损耗（正常损耗＜0.1mm/周）
•清理过滤网杂质
2.定期维护
•每月校准电压/电流表
•每季度更换密封圈（氟橡胶材质）
•半年清洗离子交换膜
三、注意事项
1.安全规范
•禁止带电维护设备
•电解液储存温度保持5-25℃
•工作区安装排风系统（风量≥500m³/h）
2.故障处理
•抛光不均匀：检查夹具导电性，调节溶液PH值（建议8-10）
•设备报警：立即断电，排查电极短路或过载问题
建议建立运行日志，记录每次抛光参数及设备状态，定期进行保养可延长设备寿命3-5年。电解液建议每处理200kg工件或使用30天后更换。

铜等离子抛光机：精密表面处理的新锐技术
铜等离子抛光机是一种基于低温等离子体技术的新型表面处理设备，专为铜及铜合金材料设计，通过物理与化学协同作用实现精密抛光。该设备利用高频电场电离气、氧气等工艺气体，形成高活性等离子体，在真空腔体内对工件表面进行纳米级蚀刻，可有效去除铜材表面的氧化层、毛刺及微观缺陷，获得镜面级光洁度。
技术优势：
1.非接触式加工：通过等离子体轰击实现原子级材料去除，避免传统机械抛光导致的应力变形，尤其适用于精密电子元件、超薄铜箔等易损件。
2.环保特性：采用干式工艺，无需化学抛光液，废水排放量减少90%以上，符合RoHS环保标准。
3.复合处理能力：通过调节气体配比（如Ar/O₂/H₂混合气体），可同步实现表面清洁、氧化层去除和微结构调控，处理后的铜表面接触电阻降低40%-60%。
4.智能控制：配备PLC控制系统，可调控气体流量（5-50sccm）、射频功率（200-1000W）和腔体压力（10-100Pa），适应不同纯度铜材（T1-T4）的处理需求。
典型应用领域：
•电子工业：PCB微孔铜箔抛光、连接器触点处理
•精密制造：波导管内壁处理、热交换器流道清洁
•装饰行业：铜工艺品镜面处理、建筑铜饰面
•新能源领域：锂电池铜集流体表面改性
设备配置通常包含真空腔体（容积50-200L）、射频电源（13.56MHz）、气体配比系统及自动传输装置，处理效率可达0.1-0.3μm/min，粗糙度Ra值可控制在0.01-0.05μm。操作时需注意保持环境湿度＜60%，并定期维护真空泵组和电极组件。该技术正逐步替代传统化学抛光和电解抛光工艺，在5G通讯、半导体封装等领域展现出显著优势。

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