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等离子铜抛光的用水怎样

等离子铜抛光的用水主要体现在 )1抛光盐要配成溶液需要自来水，不同规格的等离子铜抛光设备用水量不一样100A设备96升、200A设备230升、300A设备330升、500A设备520升、800A设备617升、1000A设备702升。)2等离子铜抛光在工作过程中会产生大量水蒸气需要补自来水到反应内维持反应槽内水位不变。 3等离子铜抛光光在工作过程中需要做钝化、需要将铜产品表面残留抛光液去除干净、使用要使用几个过水槽（带溢流）来清洗铜产品，过水槽里面需加满自来水，在工作过程中也需要开少许溢流来维持过水槽里水的清洁。总之等离子铜抛光的用水跟等离子铜抛光设备大小有关系、从0.5—3吨自来水左右。

表壳铜抛光

表壳也有好多用铜做本体，表壳的特点是产品复杂、曲面较多、有分大身、小身、耳孔二面、现状复杂各异，要抛光是个需要很多技术含量的工作，用手抛光很难做到统一，铜抛光手法、力度都会影响抛光效果、要么过抛棱角部分塌陷、要么欠抛、品质达不到要求，八溢自动化设备生产的铜抛光设备、主要处理铜抛光的过细和精抛光这段工序、无过抛欠抛品质恒定、且抛光无死角、抛光均匀、无需抛光蜡。环保干净卫生、效果明显。

等离子铜抛光机现场人员配置

等离子铜抛光现场人员配置，跟等离子铜抛光机的功率大小和产品大小有关系，需要完成的工作流程有：上挂、抛光、过水、吹干、下挂。功率小的铜抛光设备由于挂的产品数量较少，一个人可以完成几个工序。功率大的铜抛光设备由于挂的产品数量较多，有些工序可以一人完成、有些工序需要几人才能完成，如挂具小上下挂的几个人才能完成。总之离子铜抛光机需要1到几人才能完成。