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等离子抛光对水的要求

等离子抛光的用水主要是拿来稀释抛光盐，形成抛光盐溶液，这方面的水有条件的话用纯水、因为水里面杂质少、对抛光盐的干扰也会少很多，没有条件用自来水也可以、对抛光盐的时效性多少会有点影响，还有一部分用水是拿来清洗抛光后的产品的、抛光好的产品从等离子抛光机里面拿出来、产品表面会有少许抛光液残留、靠通过过水槽溢流将残留抛光液洗掉、加上超音波会清洗的更彻底，如果对产品表面要很高的产品，得需要一条专门的超音波清洗线来完成。

等离子抛光工艺流程

等离子抛光工艺流程1首先视其产品干净程度、太脏的加超音波清洗出去产品的脏污以免污染抛光盐影响抛光时效性。2开启等离子抛光机加温至接近沸腾、添加抛光盐搅拌才溶液、开始抛光作业。3抛光完成后立即放到带溢流的过水槽里面漂洗、过水槽里面水一定要干净且流动（也可以加超音波和纯水来清洗、这样更加彻底）。4过完水后用压缩空气吹去附在产品表面的水、尽量不残留。5将产品放到烤箱内烤干既可以进行包装作业。

等离子抛光对表层的影响

等离子抛光是物理反应和化学反应并存的，当产品通电沉到抛光槽里面时、产品接触到抛光盐溶液的那一瞬间、电场的作用将抛光盐溶液电离成大量的酸根离子、酸根离在电场的作用下闯击产品表面一部分形成尖端放电、把产品微观高的地方给直接闯击掉，另外这些酸根离子还会和产品表面的材料成分发生化学反应、形成微弱的溶解、微观高的地方不断被溶解和打掉、所以会慢慢去掉高的部分、也就是慢慢变平整、启动抛光的作用。八溢自动化设备有限公司生产的等离子抛光设备、效率高、操作简单方便。

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